光纖光柵紫外刻寫

本平臺光柵刻寫基于相位掩膜法 ，將用全息干涉法制作好的玻璃相位掩模板置于光纖前，然后以248nm的紫外光通過相位掩模板，依靠相位掩膜板具有的壓制零級，增強一級衍射的功能。使得紫外光經過相位掩模板后后衍射到光纖上形成干涉條紋，寫入周期為掩膜板周期一半的Bragg光柵。這種成柵方法不依賴于入射光波長，只與相位光柵的周期有關，因此，對光源的相干性要求不高，簡化了光纖光柵的制造系統。